鍍膜是在高真空度進(jìn)行的

2019-05-22 11:40:18

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在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的重要因素。因此，在評估薄膜樣品的性能時(shí)，有必要測試不同厚度下薄膜樣品的性能。在真空鍍膜的情況下，往往需要多次準(zhǔn)備樣品。但是這么多次制備樣品有兩個(gè)問題:一，對于不同時(shí)間生長的樣品，儀器的狀態(tài)是不同的，所以影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度；其次，在真空鍍膜實(shí)驗(yàn)中加載樣品時(shí)，再次獲得真空是非常耗時(shí)的。和檢測成本增加。

真空鍍膜是一種需要在高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。在真空鍍膜過程中，磁控濺射靶在發(fā)射過程中會(huì)產(chǎn)生高溫，使發(fā)射變形，所以它有水套來冷卻發(fā)射。為了保證水套內(nèi)的水溫不受環(huán)境和自然氣溫的影響，通常需要使用冷水機(jī)對真空鍍膜機(jī)進(jìn)行冷卻。

使用電子鍍膜時(shí)，在鐘罩外圍要放一塊鋁板。觀察窗的玻璃應(yīng)采用鉛玻璃，觀察時(shí)應(yīng)佩戴鉛玻璃眼鏡，防止x光對人體造成傷害。2.在離子轟擊和蒸發(fā)過程中，要特別注意高壓線接頭，不要觸碰，以防觸電。1.真空鍍膜機(jī)正常運(yùn)行時(shí)，必須先打開水管，工作中要注意水壓。