真空膜是指要求具有較高真空度的薄膜，特別是真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。磁控濺射靶在真空鍍膜過程中，由于發(fā)射時溫度較高，會使射出變形，所以它有一個水套來冷卻射。但要保證套管內(nèi)水溫不受環(huán)境溫度和自然溫度的影響，通常需要借助冷水機(jī)組實現(xiàn)真空鍍膜機(jī)組的冷卻冷卻。

負(fù)壓條件下成膜有許多優(yōu)點(diǎn)：可以減少蒸發(fā)的材料原子、分子在飛向基底的過程中與分子的碰撞、氣體中活性分子與蒸發(fā)源材料之間的化學(xué)反應(yīng)(例如氧化等)，以及降低成膜過程中氣體分子進(jìn)入基底中成為雜質(zhì)的數(shù)量，采用金屬真空鍍膜，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基底的粘接能力。一般真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于距離基片較遠(yuǎn)、成膜質(zhì)量要求高的蒸發(fā)源要求降低壓力。

在濺射膜上激光濺射鍍膜，成分均勻，易于保持，在原子尺度上厚度均勻度相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外邊沿)生長的控制也比較一般。真空鍍膜機(jī)操作規(guī)程具體操作時，請參照本說明書及本設(shè)備上儀表盤的指針顯示和每個旋鈕下的標(biāo)注說明。確認(rèn)真空鍍膜機(jī)的各個操作控制開關(guān)是否處于“關(guān)斷”位置。就我國現(xiàn)有的涂裝生產(chǎn)線而言，主要存在以下問題：設(shè)計水平不高，我國在涂裝設(shè)備開發(fā)方面投入不大，先進(jìn)成熟的涂裝設(shè)備很少占領(lǐng)市場，即使是國內(nèi)自己建造的涂裝生產(chǎn)線，生產(chǎn)線上的一些關(guān)鍵設(shè)備也是引進(jìn)多了。它在國內(nèi)的一些基礎(chǔ)部件和控制部件的質(zhì)量并沒有過關(guān)，經(jīng)不起長期的考驗。