真空鍍膜是一種需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等。在真空鍍膜的過(guò)程中，磁控管濺射靶會(huì)在發(fā)射過(guò)程中產(chǎn)生高溫，這會(huì)使彈丸變形，因此它有一個(gè)水套來(lái)冷卻彈丸。為了確保水套中的水溫不受環(huán)境和自然溫度的影響，通常必須使用冷卻器來(lái)冷卻真空鍍膜機(jī)。

真空鍍膜設(shè)備在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：它可以減少蒸發(fā)材料中的原子與分子之間的碰撞以及在飛向基材過(guò)程中的分子，減少活性物質(zhì)之間的化學(xué)反應(yīng)（例如氧化等）氣體和蒸發(fā)源材料中的分子，并減少在成膜過(guò)程中作為雜質(zhì)進(jìn)入膜的氣體分子的量，并且硬件真空鍍膜可以提供膜的密度，純度，沉積速率和對(duì)基材的附著力。通常，真空蒸發(fā)需要成膜室中的壓力等于或低于10-2Pa。對(duì)于蒸發(fā)源遠(yuǎn)離基材且膜質(zhì)量非常高的場(chǎng)合，要求壓力較低。

鍍?cè)跒R射涂層中的激光濺射涂層易于保持組成的均勻性，但是原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），并且對(duì)晶體取向（外緣）生長(zhǎng)的控制比較一般。有關(guān)真空鍍膜機(jī)操作步驟的具體操作，請(qǐng)參閱設(shè)備手冊(cè)和設(shè)備儀表板上的指針顯示以及每個(gè)旋鈕下方的說(shuō)明。檢查真空鍍膜機(jī)的操作控制開關(guān)是否處于“關(guān)閉”位置。從我國(guó)現(xiàn)有的涂料生產(chǎn)線來(lái)看，主要問題如下：設(shè)計(jì)水平不高，我國(guó)在涂料設(shè)備的開發(fā)上投入不多，先進(jìn)，成熟的涂料設(shè)備很少占領(lǐng)市場(chǎng)，即使是在國(guó)內(nèi)自行建造的。對(duì)于涂料生產(chǎn)線，該生產(chǎn)線上的一些關(guān)鍵設(shè)備也是進(jìn)口的。我國(guó)一些基本部件和控制部件的質(zhì)量不足以承受長(zhǎng)期測(cè)試。