磁控濺射技術(shù)是一種起源于較早的技術(shù)，但仍可以發(fā)揮重要作用。其優(yōu)越性不僅體現(xiàn)在涂料上，還滲透到各個(gè)行業(yè)。今天，我國濺射技術(shù)水平與以前相比有了重大突破。隨著時(shí)代的進(jìn)步和現(xiàn)代工業(yè)化生產(chǎn)的要求，社會(huì)對磁控濺射技術(shù)的要求越來越高。這就要求一大批科研人員繼續(xù)深入探索，進(jìn)一步研究和改進(jìn)這項(xiàng)技術(shù)，提高其準(zhǔn)確性和功能。，滿足現(xiàn)代工業(yè)日益增長的需求，更好地為社會(huì)發(fā)展和科學(xué)進(jìn)步做出貢獻(xiàn)。

目前，磁控濺射涂層的研究越來越頻繁。磁龍濺射是低壓下高速濺射，必須有效提高氣體的電離率。一種通過引入目標(biāo)陰極表面的磁場，利用磁場限制帶電粒子來增加濺射速率來增加等離子體密度的方法。利用外部磁場捕獲電子，擴(kuò)展和抑制電子的運(yùn)動(dòng)路徑，實(shí)現(xiàn)高電離率，提高鍍膜率。

在磁龍目標(biāo)的濺射涂過程中，由于磁控器目標(biāo)的陰極陽極距離被確定為基本恒定值，工作氣體的壓力可能在一定范圍內(nèi)變化（例如，0.1Pa~10Pa）。點(diǎn)火電壓影響較大，變化的一般趨勢是：隨著工作氣體壓力的逐漸增大，磁控目標(biāo)點(diǎn)火電壓也相應(yīng)降低。不同材料的不同磁控目標(biāo)和目標(biāo)具有不同的工作氣體壓力，用于目標(biāo)點(diǎn)火。