真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，采用物理或化學(xué)方法，結(jié)合電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，實(shí)現(xiàn)薄膜制備的新工藝。簡(jiǎn)而言之，就是將金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或?yàn)R射，使之凝固并沉積在涂膜的基體上的方法，叫做真空鍍膜。

真空膜是指要求具有較高真空度的薄膜，特別是真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。磁控濺射靶在真空鍍膜過程中，由于發(fā)射時(shí)溫度較高，會(huì)使射出變形，所以它有一個(gè)水套來冷卻射。但要保證套管內(nèi)水溫不受環(huán)境溫度和自然溫度的影響，通常需要借助冷水機(jī)組實(shí)現(xiàn)真空鍍膜機(jī)組的冷卻冷卻。專用真空鍍膜冷水機(jī)，可穩(wěn)定水溫在5℃~30℃，調(diào)節(jié)可控，可有效控制鍍膜溫度，提高鍍件質(zhì)量。

薄膜的制備是在真空條件下進(jìn)行的，包括晶態(tài)下的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物薄膜，雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但真空鍍膜通常是通過物理方法沉積薄膜。有三種形式的真空鍍膜，即蒸發(fā)式、濺射式和離子式。真空膜的多功能性也決定了它的應(yīng)用場(chǎng)合十分豐富。總的來說，真空鍍膜的主要作用是使鍍膜表面具有很高的金屬光澤和鏡面效果，使鍍膜材料具有卓越的阻隔性，提供優(yōu)良的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。