真空鍍膜設(shè)備操作及知識

2020-12-16 09:35:17

次

激光濺射鍍膜中，成分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶體方向(外緣)生長的控制也比較一般。真空鍍膜設(shè)備的具體操作請參考設(shè)備說明書、設(shè)備上儀表盤的指針顯示和各旋鈕下的標簽說明。檢查真空鍍膜機的操作控制開關(guān)是否處于“關(guān)閉”位置。從我國現(xiàn)有的涂裝生產(chǎn)線來看，主要存在以下問題:設(shè)計水平不高，我國對涂裝設(shè)備的研發(fā)投入不多，先進成熟的涂裝設(shè)備很少占領(lǐng)市場。即使是國內(nèi)自己建的涂裝生產(chǎn)線，生產(chǎn)線上的一些關(guān)鍵設(shè)備也是進口過多。國內(nèi)一些基礎(chǔ)元器件和控制元器件質(zhì)量很差，經(jīng)不起長期考驗。

真空鍍膜設(shè)備

物理鍍膜主要包括真空鍍膜、等離子鍍膜、離子束輔助沉積(IAD)和化學氣相沉積(CVD)。用這種方法沉積的薄膜均勻，致密性好。人們已經(jīng)使用這種方法來沉積具有一定功能和優(yōu)異機械和光學性能的薄膜。但是這種方法需要嚴格的涂裝設(shè)備和工藝條件，所以成本較高。再者，塑料的耐熱性差，而且這種方法對溫度的要求更高、更長，所以對它的應用較少，只對玻璃適用。

在真空鍍膜、金屬鍍膜、玻璃鍍膜、導電膜生產(chǎn)領(lǐng)域，溫度控制非常重要，專用鍍膜設(shè)備冷卻設(shè)備是必不可少的，用于控制冷卻水循環(huán)，將設(shè)備產(chǎn)生的熱量通過冷卻管道水流帶回設(shè)備進行冷卻，循環(huán)制冷達到冷卻設(shè)備的目的。