真空鍍膜在薄膜生產(chǎn)上的作用

2020-12-21 11:14:00

次

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面。它以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，采用物理或化學(xué)方法，吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供了一種新的薄膜制備工藝。簡而言之，金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或濺射，從而可以沉積在被涂覆的物體(稱為基底、襯底或基體)上。

真空鍍膜技術(shù)是一種材料合成加工技術(shù)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體電路、LED屏、觸摸屏、顯示屏行業(yè)，如光學(xué)薄膜、感光薄膜、保護膜、工具超硬薄膜、納米材料功能薄膜的生產(chǎn)。然而，全球制造業(yè)的快速發(fā)展給真空鍍膜行業(yè)帶來了巨大的機遇和挑戰(zhàn)。

與傳統(tǒng)鍍膜工藝相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點:在真空電場條件下，等離子體直接沉積在工件表面形成膜層，避免了電鍍液的污染；還可以將加工溫度控制在500度以內(nèi)，適用于各種基體材料；靶材種類繁多，更適合涂覆各種產(chǎn)品。

蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍是真空鍍膜技術(shù)的三種形式，基于這三種技術(shù)的真空鍍膜設(shè)備是形成高質(zhì)量、高性能薄膜的關(guān)鍵。以磁控濺射鍍膜設(shè)備為例，在真空環(huán)境下，充入的氬氣通過高壓和磁場處于離子狀態(tài)，撞擊靶材，使靶材原子沖向襯底形成薄膜層。