真空鍍膜的作用

2020-12-21 11:23:10

次

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是基于真空技術，采用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的新工藝.簡而言之，將金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或濺射，使之凝固并沉積在涂覆物(稱為基體，基片)上的方法，即真空鍍膜。

真空鍍膜

真空鍍膜的作用主要是使鍍膜表面具有高的金屬光澤和鏡面效果，特別是汽車燈罩，具有非常重要的聚光效果；其次，使鍍膜表面具有極好的阻隔性，提供優(yōu)良的電磁屏蔽和導電效果。根據(jù)氣相金屬生成方式和沉積方式的不同，真空鍍膜分為兩種工藝：熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法。而磁控濺射法由于鍍層與基體結合力強，鍍層致密、均勻，因而更具技術優(yōu)勢。負壓電鍍工藝是指在真空環(huán)境中，某些金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬)，屬于物理氣相沉積工藝，由于鍍層通常是鋁、錫、銦等金屬的薄膜，所以又稱負壓金屬化。

真空膜是指要求具有較高真空度的薄膜，特別是真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。磁控濺射靶在真空鍍膜過程中，由于發(fā)射時溫度較高，會使射出變形，所以它有一個水套來冷卻射。但要保證套管內水溫不受環(huán)境溫度和自然溫度的影響，通常需要借助冷水機組實現(xiàn)真空鍍膜機組的冷卻冷卻。專用真空鍍膜冷水機，可穩(wěn)定水溫在5℃~30℃，調節(jié)可控，可有效控制鍍膜溫度，提高鍍件質量。