真空鍍膜機有那幾部分

2020-12-22 14:56:52

次

真空鍍膜機主要是指一種需要在高真空度下進行的鍍膜，包括多種，包括真空電阻加熱蒸發(fā)、電子槍加熱蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積、離子束濺射等。主要思路分為蒸發(fā)和濺射。

真空室。

涂布設(shè)備主要包括連續(xù)涂布生產(chǎn)線和單室涂布機兩種形式。表面進行不銹鋼材料制造、氬弧焊和化學拋光處理。各種規(guī)格的法蘭接口焊接在真空室組件上。

真空鍍膜機

真空獲得部分。

在真空技術(shù)中，真空獲得部分是一個重要的部分。真空不是一個真空設(shè)備和方法可以達到的，必須同時使用幾個泵，如機械泵、羅茨泵和分子泵系統(tǒng)。

真空測量部分。

真空系統(tǒng)的真空測量部分是測量真空室中的壓力。像真空泵一樣，沒有真空計可以測量整個真空范圍，所以人們根據(jù)不同的原理和要求制作了多種真空計。如熱電偶表、電離表、皮拉尼表等。

電源部分。

目標電源主要包括DC電源、中頻電源、脈沖電源和射頻電源。常見的電源廠商有AE、ADL、Hottinger等。

工藝氣體輸入系統(tǒng)。

機械傳動部分。

涂層要求周圍厚度均勻，因此，在涂層過程中必須有三次旋轉(zhuǎn)才能滿足要求。即要求大工件臺旋轉(zhuǎn)(I)時，小工件承載臺也旋轉(zhuǎn)(II)，工件本身也可以同時旋轉(zhuǎn)(III)。在機械設(shè)計中，大工件轉(zhuǎn)盤的底部中心通常有一個大的主動齒輪，周圍有一些小的行星齒輪。如果要實現(xiàn)產(chǎn)品旋轉(zhuǎn)，通常用撥叉撥動工件旋轉(zhuǎn)。