隨著現(xiàn)代制造業(yè)的快速發(fā)展，我們身邊的許多產(chǎn)品都在不知不覺中被應(yīng)用到涂裝技術(shù)中。真空磁控濺射鍍膜是其中一個。舉一個簡單的例子，利用真空磁控濺射鍍膜技術(shù)對車窗和家庭窗戶的玻璃進(jìn)行鍍膜，以滿足其他普通玻璃所不具備的降溫和減輻射效果。

真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜。事實(shí)上，這個過程可以沉積任何氧化物、碳化物和氮化物材料的薄膜。此外，該工藝特別適用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積，包括光學(xué)設(shè)計(jì)、彩色薄膜、耐磨涂層、納米疊層、超晶格涂層、絕緣薄膜等。早在1970年，就有了高質(zhì)量的光學(xué)薄膜沉積案例，并開發(fā)了多種光學(xué)薄膜材料。這些材料包括透明導(dǎo)電材料、半導(dǎo)體、聚合物、氧化物、碳化物、氮化物等。氟化物主要用于蒸發(fā)涂層和其他工藝。

可根據(jù)不同設(shè)備配置不同角度的安裝頭；安裝采用20不銹鋼導(dǎo)管和復(fù)合法蘭，適用于高真空和高純度涂層。此外，還可以根據(jù)客戶需求設(shè)計(jì)其他特殊屬性。圓形磁控濺射靶的應(yīng)用領(lǐng)域直徑50150mm靶主要用于高校和科研院所的研究型磁控濺射鍍膜設(shè)備；直徑150mm以上的靶材是一種生產(chǎn)型磁控濺射鍍膜設(shè)備，它利用磁控濺射鍍膜，用幾十電子伏或更高動能的高能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量，濺出進(jìn)入氣相。這種飛濺和復(fù)雜的粒子散射過程稱為濺射。濺射鍍膜是在真空室中進(jìn)行的，用高能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量。