在真空干燥設(shè)備中具有不同涂層工藝的真空涂層機使用不同的自動控制系統(tǒng),甚至具有相同涂層工藝的真空涂層機也會由于控制技術(shù)指標的不同而使用不同的控制系統(tǒng)。通用鍍膜設(shè)備自動控制系統(tǒng)的基本組成部分是微機,自動控制設(shè)備,工業(yè)自動化儀表,壓力控制器,真空計和一些自動控制組件等,可以實現(xiàn)真空鍍膜設(shè)備程序的自動控制,切換鍍膜工藝流程,基本功能,如調(diào)整真空工藝參數(shù)。
在選擇真空鍍膜機的控制系統(tǒng)時,前提是它能有效滿足真空鍍膜設(shè)備及其鍍膜過程的控制要求,注意真空鍍膜設(shè)備的各種結(jié)構(gòu)與自動控制之間的配合程度。系統(tǒng),并且要求自動控制系統(tǒng)具有簡單的結(jié)構(gòu),經(jīng)濟的,不一定是很高的自動化程度,而是要確保真空鍍膜設(shè)備的安全性,可靠性,操作方便和易于維護。控制系統(tǒng)在選擇自動控制設(shè)備及其部件和自動儀表時應(yīng)合理。
真空鍍膜是高溫下薄膜主體的蒸發(fā),使其在工件表面上結(jié)晶。由于空氣將對蒸發(fā)的薄膜分子產(chǎn)生阻力,并引起碰撞,使晶體粗糙而晦暗,因此必須在高真空下使晶體細膩明亮。如果真空度不高,晶體將失去光澤,并且粘合力也非常差。中頻磁控濺射靶利用磁控靶,在電場的作用下加速膜體蒸發(fā)分子對靶材料的轟擊,濺射大量靶原子和中性靶原子(或分子)。 )沉積在基板上。膜解決了過去自然蒸發(fā)無法處理的膜品種問題。中頻設(shè)備由于其高頻和大電流而必須添加冷卻水。當電流在導體中流動時,會產(chǎn)生集膚效應(yīng),電荷會積聚在導體表面,從而使導體發(fā)熱,因此使用中孔管作為導體以添加水進行冷卻。
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