磁控濺射對鍍膜的作用

2021-01-13 18:57:07

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磁控濺射是指電子與氬原子碰撞，電離出大量氬離子和電子，在電場作用下飛向襯底。它是一種利用高壓電場激發(fā)產生等離子體的涂層材料，幾乎適用于所有高熔點金屬，因此比真空鍍膜法成本更高。但與真空鍍膜法相比，磁控濺射法具有鍍膜層與基體層結合力強、鍍膜層致密均勻等優(yōu)點。

磁控濺射

真空鍍膜的作用主要是賦予被鍍膜件表面高的金屬光澤和鏡面效果，特別是在汽車燈罩中，其次是賦予涂層優(yōu)異的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。根據產生和沉積蒸汽金屬的不同方式，真空鍍膜可分為熱蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜兩種工藝。其中，磁控濺射法因其涂層與基體的附著力強、涂層致密均勻等優(yōu)點而具有更多的技術優(yōu)勢。真空鍍膜技術是指在真空環(huán)境下，以氣相的形式在材料(通常為非金屬)表面沉積金屬或金屬化合物，屬于物理氣相沉積技術。因為涂層通常是鋁、錫和銦等金屬的薄膜，所以也稱為真空金屬化。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。它以真空技術為基礎，采用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備新技術。簡而言之，金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或濺射，以固化和固化在涂覆的物體上(稱為基底和襯底)