蒸鍍是物理氣相沉積的一種，與濺射鍍膜和離子鍍膜相比有其優(yōu)缺點(diǎn)：設(shè)備簡單可靠，工藝易于掌握，可以大批量生產(chǎn)，蒸鍍的機(jī)理簡單，大多數(shù)物質(zhì)都可以采用真空蒸鍍；而鍍層與基材結(jié)合力差，高熔點(diǎn)物質(zhì)和低蒸氣壓物質(zhì)的鍍膜制作難度大，對(duì)于鉑、鋁等金屬來說，蒸鍍物質(zhì)所用的坩堝材料也會(huì)蒸發(fā)，混入蒸鍍物質(zhì)中成為雜質(zhì)。

真空蒸鍍：真空蒸鍍是指通過蒸鍍工藝，將某種物質(zhì)在真空中加熱蒸發(fā)，使其沉積于基材表面，從而得到薄膜的一種技術(shù)。揮發(fā)后的物質(zhì)叫做蒸鍍材料。法拉第于1857年首次提出蒸發(fā)式鍍膜工藝，經(jīng)過一百多年的發(fā)展，現(xiàn)在已經(jīng)成為鍍膜工藝的主流技術(shù)之一。通常，真空蒸鍍系統(tǒng)包括三個(gè)部分：真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、基片放置和給基片加熱裝置。為了蒸發(fā)真空中的待沉積物質(zhì)，需要一個(gè)容器來支持或裝入蒸發(fā)物，同時(shí)還需要提供蒸熱以使蒸發(fā)物達(dá)到所需的蒸汽壓。

蒸鍍過程中各組分均勻度不容易保證，天津真空，具體可調(diào)節(jié)因素同上，但由于原理限制，對(duì)于非單一組分蒸鍍而言，各組分均勻度較差。濺射法鍍膜可簡單理解為利用電子激光或高能激光轟擊靶材，將表面組分以原子團(tuán)或離子的形式濺出，并最終沉積在基體表面，經(jīng)過成膜過程，最后形成薄膜。在真空鍍膜機(jī)中，濺射鍍膜又分為多種類型，與蒸發(fā)鍍膜不同的是濺射速率是其主要參數(shù)之一。