磁控濺射真空鍍膜機(jī)
磁控濺射 法是一種 涉及 氣體 等離子體 的沉積 技術(shù) ,產(chǎn)生 的等離子 氣被限制 在含有 待沉積 物質(zhì) 的空間里 ,而濺射靶 的表面 被等離子體 中的高能 離子 所侵蝕 ,這些 等離子體 釋放 的原子 穿過 真空環(huán)境 ,再沉積 到基片 上形成 薄膜 。
濺射 功率 的影響 :當(dāng)基體 和涂層 材料 確定 時(shí),工藝 參數(shù) 的選擇 對(duì)涂層 的生長(zhǎng) 速度 和涂層 質(zhì)量 都有 很大 的影響 .濺射 功率 的設(shè)置 對(duì)涂層 生長(zhǎng) 速度 和涂層 質(zhì)量 都有 很大 的影響 。
氣壓 效應(yīng) :磁控濺射 是在低氣壓 下進(jìn)行 的高速 濺射 ,因此 必須 提高 氣體 的離化率,使之形成 等離子體 .為了 保證 濺射 功率 固定 ,需分析 氣壓 效應(yīng) 對(duì)磁控濺射 的影響 。
產(chǎn)品 具有 磁控濺射 膜的優(yōu)點(diǎn) 。
(1)無論 熔化 溫度 如何 ,幾乎 所有 材料 都可 通過 磁控濺射 法沉積
(2)可根據(jù) 基材 和涂層 的要求 調(diào)整 光源 ,并將其放置 在腔內(nèi)的任何 位置
(3)可沉積 合金 和化合物 的薄膜 ,但成分 與原材料 相似
一、磁控濺射 中的環(huán)形 磁場(chǎng) 沿環(huán)形 磁場(chǎng) 旋轉(zhuǎn) ,迫使 二次電子 沿該磁場(chǎng) 旋轉(zhuǎn) 相應(yīng) 地,環(huán)形 磁場(chǎng) 控制 的區(qū)域 是等離子體 密度 高 的地方 .在磁控濺射 過程 中,就 看到 濺射 氣體 -氬氣 在該部位 發(fā)出 強(qiáng)烈 的淡藍(lán)色 輝光 ,形成 光環(huán) .當(dāng)靶材 被離子轟擊 得強(qiáng)烈時(shí),它會(huì)濺射 出一條 環(huán)形 溝槽 .環(huán)形 磁場(chǎng) 是電子 運(yùn)動(dòng) 的軌道 ,由磁控濺射 靶的濺射 溝槽 形象 地顯示 出來 .磁控濺射 靶的濺射 溝槽 一旦 穿透 靶材 ,會(huì) 導(dǎo)致 整個(gè) 靶材 報(bào)廢 ,因此 靶材 的利用率低 底,一般 低于百分之四十 百分之;
不可以可實(shí)現(xiàn) 強(qiáng)磁性材料 的低溫 高速 濺射 ,因?yàn)?/span> 差不多 所有 磁通量 都不可以過 磁靶,因此 在靠近 靶標(biāo) 表面 的地方 不可以再加強(qiáng) 磁場(chǎng) 。
3、高檔產(chǎn)品零/部件表面的裝飾鍍中的應(yīng)用4、在不銹鋼刀片涂層技術(shù)中的應(yīng)用5、在玻璃深加工產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用
磁控制 濺射 膜的注意事項(xiàng)
1,在鋁合金 制品 裝飾裝修 中的應(yīng)用 。
高檔 產(chǎn)品 零配件 表面 裝飾 鍍層 的應(yīng)用 。在不銹鋼 刀片 涂裝工藝 中的應(yīng)用 。在玻璃深加工 行業(yè) 中的應(yīng)用 情況 。輻射 :一些 鍍膜 用到 射頻 電源 上,如功率 大,須作屏蔽 處理 .此外 ,歐洲標(biāo)準(zhǔn)的單室 鍍膜機(jī) 門框 內(nèi)嵌 裝金屬線 以屏蔽 輻射 。
2、金屬 污染 :鍍膜 材料 (如鉻、銦、鋁等)對(duì)人體 有害 ,尤其 要注意 真空室 清理 過程 中產(chǎn)生 的粉塵 污染 。
3、噪音污染 :如特別 是一些 大型 鍍膜設(shè)備 ,機(jī)械 真空泵 噪音 大,可將泵隔絕 于墻外 。
4、光污染 :離子 鍍膜 過程 中,氣體 電離 放出 強(qiáng)光 ,不宜 長(zhǎng)時(shí)間 透過觀察窗久看.