無論監(jiān)視器的精度如何，只能控制真空室單點(diǎn)位置的薄膜厚度，一般是工件架的中間位置。如果真空電鍍設(shè)備這個(gè)位置的薄膜厚度不均勻的話，遠(yuǎn)離中心位置的基得不到均勻的厚度。屏蔽罩可以消除長期的不均勻性，但有些薄膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定性和薄膜材的不同表現(xiàn)引起的，因此幾乎無法消除，但真空室結(jié)構(gòu)和蒸發(fā)源的適當(dāng)選擇可以大限度地減少這些影響。

近年來，越來越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造商提供高性能的小規(guī)格、簡單的光學(xué)鍍膜系統(tǒng)，同時(shí)，用戶對(duì)性能的要求不僅沒有下降，還提高了，特別是在薄膜密度和吸水后的光譜變化最小化等方面。

目前，系統(tǒng)平均尺寸規(guī)格已經(jīng)下降，使用小規(guī)格設(shè)備進(jìn)行光學(xué)鍍膜的生產(chǎn)也成為純技術(shù)問題。因此，選擇現(xiàn)代化光學(xué)涂層系統(tǒng)的關(guān)鍵是認(rèn)真考慮涂層產(chǎn)品的期待性能、基礎(chǔ)尺寸和物理特性以及保證高度一致性技術(shù)所需的所有技術(shù)因素。

設(shè)備的好壞決定了鍍層的質(zhì)量嗎？

設(shè)備的好壞決定了鍍層的質(zhì)量嗎？電鍍機(jī)根據(jù)一定的技術(shù)要求組合了相關(guān)的控制裝置、電鍍槽、電鍍室、真空環(huán)境、過濾設(shè)備、電源設(shè)備、檢測設(shè)備、加熱冷卻裝置等部件，為了實(shí)現(xiàn)整個(gè)技術(shù)流程，通過良好的設(shè)備可以提高產(chǎn)品電鍍的生產(chǎn)效率和質(zhì)量。

真空電鍍生產(chǎn)中使用生產(chǎn)原材料加入酸、堿的腐蝕性物質(zhì)很多，設(shè)備長時(shí)間在這樣的工作環(huán)境下運(yùn)行，不能避免線路腐蝕、潤滑下降等問題，長時(shí)間設(shè)備穩(wěn)定性下降，電鍍膜受到一定程度的影響，設(shè)備停止工作。

好的設(shè)備更耐用、更穩(wěn)定:電鍍設(shè)備適用于金屬、木材、水泥、塑料、陶瓷、樹脂、陶瓷、丙烯酸、磷鎂等各種材料，廣泛應(yīng)用于電器、玩具、手機(jī)、汽車、電腦、工藝品、飾品、家具等硬涂層行業(yè)等。

好的真空鍍膜設(shè)備的鍍層質(zhì)量會(huì)更高，對(duì)于同樣的工藝，同樣的鍍層使用時(shí)間會(huì)更短，符合材料的涂層結(jié)合會(huì)更牢固、明亮、均勻、致密、連續(xù)，大幅度降低成本。