離子電鍍要想獲得符合性能要求的薄膜，必須使沉積的薄膜具有適當(dāng)?shù)某煞趾徒M織結(jié)構(gòu)及其薄膜基結(jié)合力。可以利用上述離子轟擊效果對成膜過程各環(huán)節(jié)的有利影響來實(shí)現(xiàn)。離子電鍍影響成膜的主要因素是到達(dá)基片的各種粒子(包括膜原子和離子、工作氣體的原子和離子、反應(yīng)氣體的原子和離子)的能量、通量和各通量的比例。

此外，還有基片的表面狀態(tài)和溫度。實(shí)施的手段重要的是控制粒子的等離子體濃度和能量以及基礎(chǔ)溫度的上升。不同的離子電鍍技術(shù)和設(shè)備產(chǎn)生和控制等離子體的機(jī)制不同。影響成膜工藝參數(shù)主要有鍍膜室的氣壓、反應(yīng)氣體的分壓、蒸發(fā)源的電力、蒸發(fā)速度、蒸發(fā)源和基礎(chǔ)之間的距離、沉積速度、基礎(chǔ)的負(fù)偏壓和基礎(chǔ)溫度。

公司以現(xiàn)代薄膜技術(shù)為核心，以真空技術(shù)和電子高科技為技術(shù)保障，以人性化使用為設(shè)計(jì)基準(zhǔn)，努力在我們的產(chǎn)品開發(fā)和設(shè)備制造方面取得精益求精。公司將以最優(yōu)質(zhì)、最熱情的服務(wù)回報(bào)廣大客戶，愿與廣大用戶共同發(fā)展進(jìn)步，為我國真空鍍膜事業(yè)做出自己的貢獻(xiàn)。

我們企業(yè)的宗旨是重質(zhì)量，守信譽(yù)，熱烈歡迎國內(nèi)外用戶前來洽談業(yè)務(wù)，建立技術(shù)與商業(yè)合作關(guān)系。

本公司技術(shù)力量雄厚，設(shè)備精良，檢測手段完善，可根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)制造各種真空設(shè)備。